Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas. 2000.
déposition chimique en phase vapeur sous basse pression — mažaslėgis cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. low pressure chemical vapor deposition vok. chemische Niederdruckabscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы при низком… … Radioelektronikos terminų žodynas
déposition chimique en phase vapeur sous vide — vakuuminis cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. vacuum chemical vapor deposition vok. chemische Vakuumabscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы в вакууме, n pranc.… … Radioelektronikos terminų žodynas
oxyde de déposition chimique en phase vapeur — cheminiu gariniu būdu nusodintas oksidas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition oxide vok. chemisches Gasphasenabscheidungsoxid, n rus. оксид, сформированный методом химического осаждения из паровой фазы,… … Radioelektronikos terminų žodynas
couche de silicium de déposition chimique en phase vapeur — cheminiu gariniu būdu nusodintas silicio sluoksnis statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition silicon vok. chemische Gasphasenabscheidungssiliziumschicht, f rus. слой кремния, полученный методом химического… … Radioelektronikos terminų žodynas
polysilicium de déposition chimique en phase vapeur — polikristalinis cheminiu gariniu būdu nusodintas silicis statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposited polysilicon vok. chemisches Gasphasenabscheidungspolysilizium, n rus. поликристаллический кремний,… … Radioelektronikos terminų žodynas
dépôt chimique en phase vapeur — cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы, n pranc. déposition chimique en phase vapeur,… … Radioelektronikos terminų žodynas
Depot chimique en phase vapeur — Dépôt chimique en phase vapeur Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en… … Wikipédia en Français
Dépôt Chimique En Phase Vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 … Wikipédia en Français
Dépôt chimique en phase vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 … Wikipédia en Français
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma — Equipement de PECVD. Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (ou PECVD, pour Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition en anglais) est un procédé utilisé pour déposer des couches minces sur un substrat à partir d un état gazeux… … Wikipédia en Français
